Lil kkalkkal-i's NOTEBOOK
2024년 3월 31일 일요일
확산(Diffusion) 이란? 그리고 픽의 법칙(Fick's Law) 이란?
*목차*
1. 확산(Diffusion) 이란?
2. 삼투 현상(Osmosis)과 확산(Diffusion)
3. 픽의 확산 법칙(Fick's Law)
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2024년 3월 30일 토요일
열팽창 계수 차이(Coefficient of Thermal Expansion Mismatch)와 Wafer Bending, Warpage
*목차*
1. 열팽창 계수 차이(CTE Mismatch)로 인한 물체의 Bending, Warpage
2. CTE Mismatch로 발생하는 열응력(Thermal Stress)
3. CTE Mismatch로 인한 Wafer Warpage
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2024년 3월 27일 수요일
열변형률, 열응력, 훅의 법칙 공부(Thermal Strain, Thermal Stress, Hook's Law)
*목차*
1. 열변형률(Thermal Strain) 이란?
2. 훅의 법칙(Hook's Law)와 탄성(Elasticity)
3. 열응력(Thermal Stress) 이란?
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2024년 3월 25일 월요일
열팽창 계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion) 이란?? 선, 면적, 체적 CTE
*목차*
1. 열팽창 계수 (CTE, Coefficient of Thermal Expansion) 이란?
2. 선 열팽창 계수 (CLTE, Coefficient of Linear Thermal Expansion)
3. 면적 열팽창 계수 (Coefficient of Area Thermal Expansion)
4. 체적 열팽창 계수 (Coefficient of Volume Thermal Expansion)
5. 열챙창의 등방성(Isotropy), 이방성(Anisotropy)
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2024년 3월 24일 일요일
반도체에서 사용되는 Silicon Wafer 결정 구조 및 특징 (Single Crystal, 단결정)
*목차*
1. Silicon Wafer의 결정 구조(Crystal Structure)
2. 반도체 제조에서 Single Crystal Si Wafer의 중요성
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2024년 3월 23일 토요일
반도체 범핑 공정(Bumping), 전해도금(Electroplating) 방식 공정 흐름 정리
*목차*
1. Electroplating 방식 Bumping Process 특징
2. Electroplating 방식 Bumping Process Flow
3. 다른 형태의 Bump (Pillar + Bump)
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2024년 3월 19일 화요일
반도체 법핑 공정(Bumping), Evaporator Deposition 방식 공정 흐름 정리.
*목차*
1. Bumping 공정 이란?
2. Evaporator Deposition Bumping Flow - UBM Lift-off 방식
3. Evaporator Deposition Bumping Flow - UBM Etch 방식
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2024년 3월 18일 월요일
반도체 후공정, 열초음파 와이어 본딩(Thermosonic Wire Bonding) 공정 이란?(Gold Wire)
*목차*
1. 열초음파 방식 와이어 본딩(Thermosonic Wire Bonding) 공정 이란??
2. Thermosonic Wire Bonding 공정 흐름 (Gold Ball Wire Bonding)
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2024년 3월 17일 일요일
반도체 후공정, 초음파 방식 와이어 본딩(Ultrasonic Wire Bonding) 공정 이란??
*목차*
1. 초음파 방식 와이어 본딩(Ultrasonic Wire Bonding) 공정이란?
2. Ultrasonic Wire Bonding 공정 흐름(방법)
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2024년 3월 15일 금요일
반도체 Capillary Underfill 공정 이란? (캐필러리 언더필) with 모세관 현상
*목차*
1. Capillary Underfill(캐필러리 언더필) 이란?
2. 모세관 현상(Capillary Action) 이란?
3. Jurin's Law - 메니스커스 높이 구하기
4. 모세관 현상과 캐필러리 언더필
5. Capillary Underfill 방법
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2024년 3월 14일 목요일
반도체 포토 공정의 PEB(Post Exposure Bake), PR 패턴의 물결 모양.
*목차*
1. PR Pattern의 물결 모양
2. PEB(Post Exposure Bake)
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2024년 3월 13일 수요일
반도체 공정, 포토 공정의 흐름(Photolithography Sequence) 공부
*목차*
1. Vapor Prime(Wafer Prime)
2. Spin Coating(PR Coating)
3. Soft Bake
4. Alignment & Exposure
5. PEB
6. Development
7. Hard Bake
8. Inspection
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2024년 3월 12일 화요일
반도체 공정, 포토 공정(노광, Photo, Photolithography) 이란? Wafer 위에 스케치 하기.
*목차*
1. 포토 공정이란? (노광, Photo, Photolithography)
2. 감광액(PR, Photo Resist) 이란?
3. Photo Resist의 구성 요소 3가지
4. Photo Resist의 종류
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2024년 3월 11일 월요일
웨이퍼 제조 공정(Ingot 공정) , Si Wafer 제조 과정.
*목차*
1. 웨이퍼 제조 공정(Ingot 공정) 이란?
2. 실리콘 잉곳(Silicon Ingot) 제조 공정
3. 웨이퍼 제조 공정에서 냉각과 단결정
4. Ingot 공정에서 불순물 제거
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2024년 3월 10일 일요일
반도체 8대 공정 이란?? Semiconductor Fabrication Process
*목차*
1. 웨이퍼 제조 공정(Ingot)
2. 산화 공정(Oxidation)
3. 포토 공정(Photolithography)
4. 식각 공정(Etching)
5. 증착 & 이온주입 공정(Deposition & Ion Implantation)
6. 금속 배선 공정(Metalization)
7. 전기적 특성 검사 공정(EDS, Electrical Die Sorting)
8. 패키징 공정(Packaging)
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2024년 3월 9일 토요일
반도체 후공정 Wire Bonding(와이어 본딩) 공정 이란? 금속 선으로 연결하기
*목차*
1. Wire Bonding(와이어 본딩) 공정 이란?
2. Wire Bonding 재료(Material)
3. Wire Bonding 종류
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2024년 3월 2일 토요일
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차*
1. 언더필(Underfill) 공정 이란
2. 언더필(Underfill)의 역할
3. 언더필(Underfill) 종류
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*목차* 1. ICP(Inductively Coupled Plasma) 원리 2. ICP type 장단점 (CCP type 비교)
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*목차* 1. Electroplating 방식 Bumping Process 특징 2. Electroplating 방식 Bumping Process Flow 3. 다른 형태의 Bump (Pillar + Bump)
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*목차* 1. 열팽창 계수 차이(CTE Mismatch)로 인한 물체의 Bending, Warpage 2. CTE Mismatch로 발생하는 열응력(Thermal Stress) 3. CTE Mismatch로 인한 Wafer Warpage
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차* 1. 언더필(Underfill) 공정 이란 2. 언더필(Underfill)의 역할 3. 언더필(Underfill) 종류