Lil kkalkkal-i's NOTEBOOK
레이블이
저항열
인 게시물을 표시합니다.
모든 게시물 표시
레이블이
저항열
인 게시물을 표시합니다.
모든 게시물 표시
2024년 6월 15일 토요일
반도체 증착 공정(Deposition) - PVD Thermal Evaporation(열 증발) 방식 이란?
*목차*
1. 반도체 증착 공정(Deposition) - Thermal Evaporation(열 증발) 이란?
2. Thermal Evaporation 원리
3. Thermal Evaporation의 장단점
자세한 내용 보기 »
이전 게시물
홈
피드 구독하기:
글 (Atom)
유도결합 플라즈마(ICP, Inductively Coupled Plasma) 원리 및 장단점 공부하기
*목차* 1. ICP(Inductively Coupled Plasma) 원리 2. ICP type 장단점 (CCP type 비교)
반도체 범핑 공정(Bumping), 전해도금(Electroplating) 방식 공정 흐름 정리
*목차* 1. Electroplating 방식 Bumping Process 특징 2. Electroplating 방식 Bumping Process Flow 3. 다른 형태의 Bump (Pillar + Bump)
열팽창 계수 차이(Coefficient of Thermal Expansion Mismatch)와 Wafer Bending, Warpage
*목차* 1. 열팽창 계수 차이(CTE Mismatch)로 인한 물체의 Bending, Warpage 2. CTE Mismatch로 발생하는 열응력(Thermal Stress) 3. CTE Mismatch로 인한 Wafer Warpage
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차* 1. 언더필(Underfill) 공정 이란 2. 언더필(Underfill)의 역할 3. 언더필(Underfill) 종류