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2024년 9월 6일 금요일
반도체 공정 Etch(식각) 공정 이란? Etch 공정의 종류
*목차*
1. 반도체 식각 공정(Etch) 이란?
2. 등방성 식각(Isotropic Etch)과 이방성 식각(Anisotropic Etch)
3. 습식 식각(Wet Etch)과 건식 식각(Dry Etch)
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2024년 8월 15일 목요일
반도체 8대 공정, CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정. Wafer 표면을 평탄하게 연마하기
*목차*
1. CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정의 목적
2. CMP 공정 필수 요소
3. CMP 공정 방법
4. CMP 공정의 주요 변수
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2024년 8월 10일 토요일
반도체 증착 공정 PECVD(Plasma Enhanced CVD) 플라즈마를 이용한 화학적 증착 방법
*목차*
1. PECVD(Plasma Enhanced CVD) 공정 이란?
2. PECVD 공정의 장단점
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2024년 8월 6일 화요일
반도체 증착 공정 LPCVD(Low Pressure CVD) 저압에서 화학반응으로 증착하기
*목차*
1. LPCVD(Low Pressure CVD) 공정이란?
2. LPCVD의 장단점
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2024년 8월 5일 월요일
반도체 증착 공정 APCVD(Atmospheric CVD) 대기압에서 화학반응으로 증착하는 공정
*목차*
1. APCVD(Atmospheric CVD) 란?
2. APCVD 공정의 장단점
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2024년 8월 4일 일요일
반도체 증착 공정 CVD(Chemical Vapor Deposition)의 증착 원리에 대해서 공부해봐요
*목차*
1. CVD(Chemical Vapor Deposition) 이란?
2. CVD 방식의 박막 증착 원리
3. CVD 장단점
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2024년 7월 23일 화요일
반도체 증착 공정(Deposition) - RF Sputtering(RF 스퍼터링)에 대해서 공부해 봐요
*목차
1. RF Plasma 란?
2. 반도체 증착 공정(Deposition) RF Sputtering 이란?
3. RF Sputtering의 장단점
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2024년 7월 14일 일요일
반도체 증착 공정(Deposition) - DC Sputtering(스퍼터링) 공부
*목차*
1. DC Plasma와 DC Sputtering 이란?
2. DC Sputtering의 장단점
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2024년 6월 23일 일요일
반도체 증착 공정(Deposition) PVD 스퍼터링(Sputtering) 이란? 그리고 장단점
*목차*
1. 플라즈마(Plasma) 란?
2. 반도체 증착 공정 스퍼터링(Sputtering) 이란?
3. 스퍼터링(Sputtering)의 장단점
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2024년 6월 22일 토요일
반도체 증착 공정 PVD E-beam Evaporation 이란? 그리고 장단점
*목차*
1. E-beam Evaporation 이란?
2. E-beam Evaporation 장단점
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2024년 6월 15일 토요일
반도체 증착 공정(Deposition) - PVD Thermal Evaporation(열 증발) 방식 이란?
*목차*
1. 반도체 증착 공정(Deposition) - Thermal Evaporation(열 증발) 이란?
2. Thermal Evaporation 원리
3. Thermal Evaporation의 장단점
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2024년 5월 4일 토요일
반도체 공정 Deposition(증착) 공정 종류. PVD, CVD 이란?
*목차*
1. Deposition(증착) 공정 이란?
2.
PVD, CVD 특징 및 장단점
3.
Deposition 종류
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2024년 3월 14일 목요일
반도체 포토 공정의 PEB(Post Exposure Bake), PR 패턴의 물결 모양.
*목차*
1. PR Pattern의 물결 모양
2. PEB(Post Exposure Bake)
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2024년 3월 13일 수요일
반도체 공정, 포토 공정의 흐름(Photolithography Sequence) 공부
*목차*
1. Vapor Prime(Wafer Prime)
2. Spin Coating(PR Coating)
3. Soft Bake
4. Alignment & Exposure
5. PEB
6. Development
7. Hard Bake
8. Inspection
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2024년 3월 12일 화요일
반도체 공정, 포토 공정(노광, Photo, Photolithography) 이란? Wafer 위에 스케치 하기.
*목차*
1. 포토 공정이란? (노광, Photo, Photolithography)
2. 감광액(PR, Photo Resist) 이란?
3. Photo Resist의 구성 요소 3가지
4. Photo Resist의 종류
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2024년 3월 11일 월요일
웨이퍼 제조 공정(Ingot 공정) , Si Wafer 제조 과정.
*목차*
1. 웨이퍼 제조 공정(Ingot 공정) 이란?
2. 실리콘 잉곳(Silicon Ingot) 제조 공정
3. 웨이퍼 제조 공정에서 냉각과 단결정
4. Ingot 공정에서 불순물 제거
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유도결합 플라즈마(ICP, Inductively Coupled Plasma) 원리 및 장단점 공부하기
*목차* 1. ICP(Inductively Coupled Plasma) 원리 2. ICP type 장단점 (CCP type 비교)
반도체 범핑 공정(Bumping), 전해도금(Electroplating) 방식 공정 흐름 정리
*목차* 1. Electroplating 방식 Bumping Process 특징 2. Electroplating 방식 Bumping Process Flow 3. 다른 형태의 Bump (Pillar + Bump)
열팽창 계수 차이(Coefficient of Thermal Expansion Mismatch)와 Wafer Bending, Warpage
*목차* 1. 열팽창 계수 차이(CTE Mismatch)로 인한 물체의 Bending, Warpage 2. CTE Mismatch로 발생하는 열응력(Thermal Stress) 3. CTE Mismatch로 인한 Wafer Warpage
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차* 1. 언더필(Underfill) 공정 이란 2. 언더필(Underfill)의 역할 3. 언더필(Underfill) 종류