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2024년 3월 14일 목요일

반도체 포토 공정의 PEB(Post Exposure Bake), PR 패턴의 물결 모양.

*목차*

1. PR Pattern의 물결 모양

2. PEB(Post Exposure Bake)

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시간: 3월 14, 2024 댓글 없음:

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라벨: 노광, 반도체 8대 공정, 반도체 공정, 반도체 전공정, 정재파, 포토 공정, PEB, Photo, Photolithography, Post Exposure Bake, PR 물결, Process, Standing Wave

위치: 대한민국

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