Lil kkalkkal-i's NOTEBOOK
2024년 3월 11일 월요일
웨이퍼 제조 공정(Ingot 공정) , Si Wafer 제조 과정.
*목차*
1. 웨이퍼 제조 공정(Ingot 공정) 이란?
2. 실리콘 잉곳(Silicon Ingot) 제조 공정
3. 웨이퍼 제조 공정에서 냉각과 단결정
4. Ingot 공정에서 불순물 제거
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2024년 3월 10일 일요일
반도체 8대 공정 이란?? Semiconductor Fabrication Process
*목차*
1. 웨이퍼 제조 공정(Ingot)
2. 산화 공정(Oxidation)
3. 포토 공정(Photolithography)
4. 식각 공정(Etching)
5. 증착 & 이온주입 공정(Deposition & Ion Implantation)
6. 금속 배선 공정(Metalization)
7. 전기적 특성 검사 공정(EDS, Electrical Die Sorting)
8. 패키징 공정(Packaging)
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2024년 3월 9일 토요일
반도체 후공정 Wire Bonding(와이어 본딩) 공정 이란? 금속 선으로 연결하기
*목차*
1. Wire Bonding(와이어 본딩) 공정 이란?
2. Wire Bonding 재료(Material)
3. Wire Bonding 종류
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2024년 3월 2일 토요일
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차*
1. 언더필(Underfill) 공정 이란
2. 언더필(Underfill)의 역할
3. 언더필(Underfill) 종류
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2024년 2월 25일 일요일
Flip Chip Bonding(플립칩 본딩) 공정 이란. Chip을 붙이는 반도체 후공정
*목차*
1. Flip Chip Bonding(플립칩 본딩) 공정 이란?
2. Flow of Flip Chip Bonding(플립칩 본딩 공정의 흐름)
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2024년 2월 23일 금요일
반도체 범핑 공정(Bumping), Chip과 Chip을 연결하는 Bump 그리고 UBM
*목차*
1. Bump(범프, 접속단자) 란???
2. Bumping(범핑 공정) 이란???
3. UBM(Under Bump Metallurgy) 이란???
4. Bump Deposition(증착)
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2024년 2월 1일 목요일
CCP type AC or RF Plasma의 Electric Potential, Sheath, Self bias 공부
*목차*
1. CCP type AC Plasma의 전위(Electric Potential) 그리고 쉬스(Sheath)
2. CCP type AC Discharge에서 Self Bias 현상(자기 or 유도 바이어스, DC Bias)
3. Asymmetric CCP에서 Self Bias 현상
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유도결합 플라즈마(ICP, Inductively Coupled Plasma) 원리 및 장단점 공부하기
*목차* 1. ICP(Inductively Coupled Plasma) 원리 2. ICP type 장단점 (CCP type 비교)
반도체 범핑 공정(Bumping), 전해도금(Electroplating) 방식 공정 흐름 정리
*목차* 1. Electroplating 방식 Bumping Process 특징 2. Electroplating 방식 Bumping Process Flow 3. 다른 형태의 Bump (Pillar + Bump)
열팽창 계수 차이(Coefficient of Thermal Expansion Mismatch)와 Wafer Bending, Warpage
*목차* 1. 열팽창 계수 차이(CTE Mismatch)로 인한 물체의 Bending, Warpage 2. CTE Mismatch로 발생하는 열응력(Thermal Stress) 3. CTE Mismatch로 인한 Wafer Warpage
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차* 1. 언더필(Underfill) 공정 이란 2. 언더필(Underfill)의 역할 3. 언더필(Underfill) 종류