Lil kkalkkal-i's NOTEBOOK
2024년 6월 15일 토요일
반도체 증착 공정(Deposition) - PVD Thermal Evaporation(열 증발) 방식 이란?
*목차*
1. 반도체 증착 공정(Deposition) - Thermal Evaporation(열 증발) 이란?
2. Thermal Evaporation 원리
3. Thermal Evaporation의 장단점
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2024년 5월 4일 토요일
반도체 공정 Deposition(증착) 공정 종류. PVD, CVD 이란?
*목차*
1. Deposition(증착) 공정 이란?
2.
PVD, CVD 특징 및 장단점
3.
Deposition 종류
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2024년 4월 30일 화요일
반도체 패키지 Blade Dicing(Sawing) 공정의 DBG(Dicing Before Grinding) 방식
*목차*
1. 기존 Sawing 공정 순서와 문제점
2. DBG(Dicing Before Grinding) 방식이란?
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2024년 4월 27일 토요일
반도체 패키지 Blade Dicing(Sawing) 공정의 다양한 Cutting 방법
*목차*
1. Full Cut
2. Half Cut
3. Dual Cut
4. Step Cut
5. Bevel Cut
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2024년 4월 21일 일요일
반도체 패키지 Wafer Blade Dicing(Sawing) 공정 이란? Wafer 자르는 공정
*목차*
1. Blade Dicing(Sawing) 공정 이란?
2. Sawing Process Flow
3. Sawing의 공정 변수
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2024년 4월 15일 월요일
반도체 패키지, RDL(Re-Distribution Layer, 재배열) 공정 이란?
*목차*
1. RDL(Re-Distribution Layer) 공정 이란?
2. RDL Process Flow
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2024년 4월 14일 일요일
열역학 제 1법칙(The first law of thermodynamics) 에너지 보존 법칙 이란?
*목차*
1. 기체(Gas)가 하는 일
2. 기체(Gas)의 내부 에너지
3. 열역학 제 1법칙 - 에너지 보존의 법칙
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유도결합 플라즈마(ICP, Inductively Coupled Plasma) 원리 및 장단점 공부하기
*목차* 1. ICP(Inductively Coupled Plasma) 원리 2. ICP type 장단점 (CCP type 비교)
반도체 범핑 공정(Bumping), 전해도금(Electroplating) 방식 공정 흐름 정리
*목차* 1. Electroplating 방식 Bumping Process 특징 2. Electroplating 방식 Bumping Process Flow 3. 다른 형태의 Bump (Pillar + Bump)
열팽창 계수 차이(Coefficient of Thermal Expansion Mismatch)와 Wafer Bending, Warpage
*목차* 1. 열팽창 계수 차이(CTE Mismatch)로 인한 물체의 Bending, Warpage 2. CTE Mismatch로 발생하는 열응력(Thermal Stress) 3. CTE Mismatch로 인한 Wafer Warpage
언더필(Underfill) 공정 이란. 반도체 패키징. 플립칩 본딩 후 Chip 보호하기.
*목차* 1. 언더필(Underfill) 공정 이란 2. 언더필(Underfill)의 역할 3. 언더필(Underfill) 종류